1200℃二通道混气高真空CVD系统-合肥科晶

1200℃二通道混气高真空CVD系统-合肥科晶

1200℃二通道混气高真空CVD系统详细介绍:
1200℃二通道混气高真空CVD系统,型号为OTF-1200X–HVC是由OTF-1200X-单温区管式炉,二路质子混气系统和高真空机组组成。其最高工作温度可达1200℃,极限真空度可达 10-5 torr。混气系统可以对两种气体进行精确的混气,然后导入到管式炉内部。
【OTF-1200X系列 管式炉参数】

壳体结构
  • 采用双层壳体结构,并带有风冷.使得壳体表面的温度小于60度
  • 内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率,同时也可以延长仪器的使用寿命
炉管
  • 材质: 高纯石英管
  • 石英管包含在内.
  • 可以选择其他管径
功率          2.5KW
工作电压          AC 208-240V 单相, 50/60Hz
加热元件        Fe-Cr-Al Alloy doped by Mo,(电阻丝表面涂有氧化锆涂层,最大程度的延长加热元件的使用寿命)
工作温度
  • 最高工作温度.: 1200°C
  • 连续工作温度: 1100°C
加热速率    加热速率: 1~20°C/min 可编程
加热区长度
  • 总加热区长度: 440mm
控温系统
  • PID自动控制方式,可设置30段升降温程序
  • 控温精度: ±1°C
  • 热电偶: K 型已经安装在炉内
真空密封
  • 一对不锈钢真空密封法兰,已经安装
  • 法兰上已经安装机械压力表
  • 一对精密针阀
  • KF-40 的抽气接口
功率         100~110W
工作电压         AC 208-240V , 50/60Hz

【高真空机组 参数】

壳体
  • 壳体尺寸:  600 (L) x 600 (W) x 700(H), mm
  • 最大承载量:       600 Lbs on topf:
  • 分子泵显示屏: LCD 数字显示
  • 壳体内安装有一台德国制造的分子泵
抽气速率
  • N2     33 L/s
  • He     39 L/s   (2340L/minute)
  • H2   32 L/s
工作范围         1000 mbar to <1E-7 mbar
极限         <1E-8 mbar (无泄漏)

【质量流量控制器 参数】

壳体
  • 采用 316不锈钢制作
  • 混气箱尺寸: Φ80X120mm
  • 外形尺寸: 600(L) x 600(W) x 700(H), mm
功率          18W
工作电源          AC 208-240V, Single phase, 50/60Hz
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