OTL-PECVD-1200PECVD系统-南京莱步科技实业

OTL-PECVD-1200 PECVD系统详细介绍：

OTL-PECVD-1200PECVD系统，由OTL1200真空管式炉、石英真空室、射频电源、GX供气系统、抽气系统、真空测量系统组成。

OTL-PECVD-1200PECVD系统主要特点：

★  通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。

★  PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低

★  可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小

★  PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。

★  广泛应用于：各种薄膜的生长，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。

OTL-PECVD-1200 PECVD系统以优质电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温仪表，过零触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，炉管两端能不锈钢法兰密封，不锈钢法兰上安装有气嘴、阀门和压力表，抽真空时真空度能够达到10-3 Pa，具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能、价格优惠等优点。

开盖保护系统：该炉安装有行程开关，当炉盖打开时会自动切断电源，有效地保证使用者的安全。

可以与电脑连接：配有通讯接口和软件，可以直接通过电脑控制炉子的各个参数，并能从电脑上观察到炉子上PV和SV温度值和仪表的运行情况，炉子的实际升温曲线电脑会实时绘出，并能把每个时刻的温度数据保存起来，随时可以调出。

OTL-PECVD-1200 PECVD系统的炉膛特点：

★  真空吸滤成型的优质高纯氧化铝多晶纤维固化炉膛。

★  采用日本技术成型。

★  炉膛里电阻丝的间距和节距全部按日本最优的热工技术布置、经过热工软件模拟温场

★  采用4周加热，温场更加均衡