小型PECVD管式炉系统-合肥科晶

小型PECVD管式炉系统详细介绍：
小型PECVD管式炉系统，型号为 OTF-1200X-50S-PE是一款小型的PE-CVD（等离子体气相沉积）管式炉系统。此套设备带有500W的等离子射频电源，一个炉管直径为50mm的开启式管式炉（带有真空法兰和连接管道）和一个直联式双旋机械泵。因此这套设备模型可以更新为不同的PECVD系统。对于有限的经费的情况下来进行材料探索，此套系统极为理想。
【小型PECVD管式炉系统的特点】
☆ 与普通CVD相比可以在低温环境下进行气相沉积实验
☆ 对于薄膜的应力可以通过射频电源的频率来进行控制
☆ 通过工艺调节来控制化学计量
☆ 能够广泛地用于各种材料沉积，如SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等
【技术参数】

开启式管式炉
输入电源：208 – 240V AC, 1.2kW
最高工作温度1200℃（小于1小时）
连续使用温度1100℃
采用高纯氧化铝作为炉膛材料，并且表面涂有美国进口高温氧化铝涂层，可延长仪器使用寿命和提高加热效率
高纯石英炉管，尺寸为 50mmOD x 44mmID x  780mmL
可设置30段升降温程序，并带有过热和断偶保护
加热区长度为200mm 注：由于测量手段及外部环境的影响，测量结果可能会有偏差，此参数仅供参考不作为该设备的技术指标。
等离子体射频电源

输出功率: 5 -500W可调
稳定性为+/-1%
射频电源频率13.56 MHZ, 稳定性±0.005%
最大反向功率: 200W max
射频电源电子输出口: 50 Ω, N型半岛体, 阴极
噪声<50 dB.
冷却方式：空气冷却
输入电源: 208-240VAC, 50/60Hz
真空法兰和接头
真空法兰采用304不锈钢制作
左端法兰上安装有防腐型数字真空计、不锈钢针阀和一个球阀。
右端法兰设计为KF25接口，上面配有泄气阀，挡板阀和两个KF25卡箍
仪器中所配的数字真空计，可以不用因使用气体的不同而进行校正，同时还具有防腐功能（请点击图片查看详细介绍）
真空泵：AC 220V 50 Hz  1/2HP  375W2L/s，与本公司管式炉配套使用，可使其真空度达到10-2 torr
进气端带有储气球（防止回油），出气端安装有油雾过滤器（防止油雾扩散到空气中，保护环境和人体健康）
产品尺寸和重量    外形尺寸：1500mm x 600mm x 1200mm( L x W x H)；净重: 160 lbs
可选配置 ：下面是混气及气液混合系统，防腐型小型三路浮子混气系统，精密气液混合系统，三路质子混气系统
开门断电   ：为保证使用安全，该电炉为开门断电设计
质保期  ： 一年质保期，终身维护（不包括炉管、硅胶密封圈和加热元件）